| Sumber Deposisi | Steed Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
| Aplikasi | pengencang presisi baja, sekrup, logam kamera |
| Fitur Film | ketahanan aus, adhesi yang kuat, warna pelapis dekoratif |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
|---|---|
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic |
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Aplikasi industri | Barang dari logam, keramik dan kaca, perlengkapan meja dari stainless steel, lembaran baja, furnitur |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi Horisontal / Vertikal, 1 pintu, |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic |
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Ruang | Orientasi Horizontal / Vertikal, 1-pintu, |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi busur PVD |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc katodik |
| Lapisan Film | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Carbide, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu |
|---|---|
| Teknologi Vakum | Metalisasi Vakum PVD |
| Sumber Pengendapan | Filamen Tungsten Termal |
| Aplikasi industri | Metalisasi plastik, ABS, PP, PE, PC, PMMA, Akrilik |
| Nama | Mesin Metalisasi Vakum |
| Ruang | Orientasi Horisontal / Vertikal, 1 pintu, |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic |
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Teknologi Vakum | MF Magnetron Sputtering, Sumber Ion Pembersihan Plasma |
|---|---|
| Sumber Deposisi | Sputtering Cathodes |
| Lapisan Film | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Carbide, Zirkonium Nitrida, Kromium Nitrida, TiAlN, |
| Aplikasi industri | Modul elektronik, papan sirkuit, pelapis keras, dekorasi PVD |
| Kamar Deposisi | 8 sisi kamar |
| teknologi | Tembaga Berlapis Langsung, sistem PVD magnetron Sputtering |
|---|---|
| Pra-pembersihan | Pra-perawatan plasma sumber Anode Ion |
| Katup sputtering | MF 4 set; DC 2 set |
| Target yang tergagap | Au Emas, Perak Ag, Tembaga, Aluminium, ITO, Ti, Cr, Stainless Steel dll. |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 2 pintu |
|---|---|
| Sumber Deposisi | Penguapan Filamen Tungsten + Deposisi Sputtering |
| Film Deposisi | Sn, In, Al / Cr / Ag / Au penguapan termal + Ti / Cr / Ni / Stainless Steel Sputtering |
| Aplikasi | Lapisan film EMI dan NCVM, produk elektronik, alat jarak jauh |
| teknologi | Metallisasi vakum, sputtering, penguapan termal PVD, pembersihan plasma sumber ion |
| Sumber Deposisi | Steed Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
| Aplikasi | Al2O3, papan sirkuit keramik AlN, pelat Al2O3 pada LED, semikonduktor |
| Fitur Film | ketahanan aus, daya rekat kuat, warna pelapis dekoratif |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
